高频超声波清洗机是在清洗应用领域定义一款频率范围相对较高的超声波频段清洗设备，相比在医学超声成像中，高频超声波的频率范围从几兆赫兹（MHz）到几十兆赫兹不同，高频超声波清洗机主要是50-200kHz频率段，低于兆赫兹超声波的1000kHz的超声波频率。

    高频超声波清洗机以其高集中的能量和极强的穿透细微缝隙能力，特别适合清洗精密部件或装配件，尤其是超洁净度表面不允许损伤的。

应用领域

    精密机械零件：以较小、细致精密件的物体，如精密机械零件等，能够达到较高的清洗精度。

    电子零部件：由于高频超声波能量较低，此时清洗机对于电子零部件等精细物体和表面敏感的材料清洗更加安全。

    光学行业：可用于光学显微镜镜片、照相机镜头等光学产品的清洗，去除油脂和灰尘。

    半导体制造：在半导体制造过程中，需要对晶圆、芯片等微小器件进行高洁净度清洗。高频超声波清洗机能够提供精细的清洁效果，满足半导体制造行业对清洗质量的高要求。

    实验室和科研单位：在高校实验室、医疗机构、科研单位等场所，高频率超声波清洗机根据不同频率段可用于实验室器皿的清洗以及液体处理，如分散、萃取、混匀、消泡、乳化等，满足于不同的需求。

    生物制药：在生物制药行业中，高频超声波清洗机除了满足基本清洗实验器皿和材料，还可以定制不同频率段进行样品前后处理。

高频超声波清洗作用

    当超声波的频率增加到几百千赫的高频时，波长相比短了，λ=0.7~1.5mm，声场中质点的稠密区与稀疏区界线模糊，液态声场中空化现象几乎消失，超声能量表现为媒质质点加速度能量。例如在硅晶片及光刻清洗中，使用950kHz超声波，两个波峰之间的时间仅为1.05us，不足以形成空化泡，但能量将达到重力加速度的10倍，兆级超声波清洗体现在液态质点对工件表面每秒95万次的精细擦洗上。

    这足以使清洗液迅速扩散到基片（工件）与粒子（污物）之间，使工件表面水化，变得湿润。液膜作用如同尖劈，使粒子从基片脱落，同时液膜也进一步防止了粒子对基片的二次吸附，这对去除亚微米粒子效果更有利。

    高频超声波清洗机因其高频率的声波产生的空化效应，加速度作用清洗特点，提供了高效、环保的清洗解决方案，适用于各种对清洗精度有高要求的行业。