超声波清洗机是一种湿洗的物理清洗方式，需要有液体介质的使用。不同的清洗对象，需要选择合适的清洗介质。清洗的工艺有水基清洗、半水溶剂清洗和有机溶剂清洗。除了有机溶剂是一种不溶于水的溶剂，但其高效的清洁能力，适用在对洁净度要求极高的场合，成本也相对高。而水基清洗和半水溶剂清洗都是需要以水为基础的清洗介质。

    过往人们对水的认识有硬水和软水两类之分，水中有钙与镁的碳酸盐、重碳酸盐、硫酸盐、氯化物以及硝酸盐等存在即称为硬水，将水的硬度（暂时硬度及永久硬度）降低或去除至一定程度的水称之为软水。但在工业用水中，通常需要纯水，例如在化工、发电、医药、食品、电子工业中，各种产品对纯水的纯度要求就大不相同。

    纯水可分为去离子水、纯净水、无热源水、高纯水和超纯水五个等级。

    去离子水：主要去除了水中的无机盐，同时去除部分机械杂质和无机物。

    纯净水：处理对象仍为无机盐，但对水中剩余的微生物、有机物等较去离子水要求严格。

    无热源水：为细菌内毒素检查用水，应用于溶解、稀释内毒素检测试剂盒标准品。

    高纯水：对残余无机盐要求极为严格，对有机物、微生物及微粒粒径有严格的要求。

    超纯水：各项指标接近理想的理论纯水的指标，是半导体光刻与清洗的极致需求。

    纯水的纯度，主要是指水中各种导电介质（即水中盐类阳离子、阴离子）、所含溶解气体、挥发物质和其他非导电介质的含量大小。超声波清洗机在选择用水方面具有一定的灵活性，主要取决于清洗的具体需求和待清洗物件的性质。

水质要求

    清洗液体介质选择合适的水源外，还需注意以下水质要求以确保超声波清洗效果：

    pH值：一般要求水质的pH值在6.5-8.5之间，过高或过低的pH值可能对清洗效果产生负面影响。

    浊度：水质的浊度应低于1 NTU，高浊度的水质会影响清洗效果。

    固体物质：水质中不应含有可见的固体物质，如悬浮物、沉淀物等。

    溶解气体：水质中的溶解气体应尽量减少，以避免对清洗过程产生不利影响。

    有机物含量：水质中的有机物质含量应低，高含量的有机物质可能会降低超声波的清洗效果。

    金属离子含量：水质中的金属离子含量要尽量低，以避免对清洗物体产生污染。

    微生物污染：水质中的细菌、病毒等微生物污染要符合卫生标准，以防止污染物在清洗过程中传播。